UVW對位平臺是一種三軸并聯(lián)機構(gòu)。XY兩軸線性運動和z軸旋轉(zhuǎn)的θ。借助卓力漢光tmc xyr運動控制器的嵌入式運動算法和軟件，可以實現(xiàn)單軸直線運動、兩軸直線插補、兩軸圓弧插補和任意圓心旋轉(zhuǎn)等復雜運動。UVW對位平臺是高精度視覺對準系統(tǒng)的機械執(zhí)行部分。主要用于曝光機、鍵合機、掩模打印機、晶圓對準、零件安裝、PCB鉆床、LCD照明特性檢測、切割機、貼片機(LCD/fpc)、屏幕打印機等場合。

　　UVW對位平臺總體結(jié)構(gòu)：

　　UVW對位平臺通常由四個模塊組成：上表、下底和中間。從模塊分布的結(jié)構(gòu)上，可以分為對稱結(jié)構(gòu)和非對稱結(jié)構(gòu)，而對稱結(jié)構(gòu)又可以分為交叉對稱結(jié)構(gòu)和四邊形對稱結(jié)構(gòu)。

　　不對稱結(jié)構(gòu)通常用于超薄或定制需求，通常不能在中間設(shè)計通孔，因此在某些特定情況下使用。對稱結(jié)構(gòu)在運動算法上更為通用，并且可以在對準平臺的中心設(shè)計通孔，在一定程度上可以滿足透射和反射的對準要求，因此得到了廣泛的應(yīng)用。對稱結(jié)構(gòu)中的四邊形分布具有較強的剛性和可擴展性，所以卓力漢光學對準平臺采用的是更多的四邊形對稱結(jié)構(gòu)。

　　校準平臺模塊：

　　UVW對位平臺通常由四個運動模塊組成，其中三個模塊配有驅(qū)動機構(gòu)，另一個模塊為驅(qū)動(非驅(qū)動)模塊。由于定位平臺具有緊湊的結(jié)構(gòu)，并且側(cè)驅(qū)動模塊在長度方向上節(jié)省空間，因此通常使用它。對準平臺模塊通常由x軸、Y軸和θZ軸組成。當這三個軸組合成對中平臺模塊時，通常會將其分為幾個結(jié)構(gòu)：雖然對中平臺是按模塊搭建的，但由于在實際施工過程中對加工、裝配、檢驗、運動控制等要求較高，建議沒有經(jīng)驗的用戶不要購買模塊并自行安裝。

　　顧名思義，對齊平臺用于對齊。任意兩個工件需要組裝在一起，可以使用對中平臺。然而，并非所有工件組件都需要對齊平臺，因為它們不需要如此高的精度。校準平臺的精度可達到1微米，用于芯片印刷。

　　目前，UVW對位平臺的應(yīng)用主要集中在半導體行業(yè)的晶圓切割、封裝檢測、PCB制造行業(yè)的曝光機、絲網(wǎng)印刷機、層壓機、壓力機、PCB板切割、手機制造、lcd/led面板制造等高速高精度行業(yè)，太陽能電池板銀絲印刷。這些行業(yè)只是校準平臺用戶的先驅(qū)，未來隨著自動化的加速，更多的行業(yè)將使用這種計數(shù)器平臺，稱為“自動設(shè)備CPU”。