由于人工衍生的各種問題,UVW對位平臺應(yīng)運而生,如對產(chǎn)量的要求很高、生產(chǎn)速度大幅提高、精度人員無法達到等。它是未來這個高度自動化行業(yè)不可或缺的產(chǎn)品。

目前,UVW對位平臺的應(yīng)用主要集中在半導(dǎo)體行業(yè)的晶圓切割、封裝檢測、PCB制造行業(yè)的曝光機、絲網(wǎng)印刷機、層壓機、壓力機、PCB板切割、手機制造、lcd/led面板制造等高速高精度行業(yè),太陽能電池板銀絲印刷。這些行業(yè)只是校準(zhǔn)平臺用戶的先驅(qū),未來隨著自動化的加速,更多的行業(yè)將使用這種計數(shù)器平臺,稱為“自動設(shè)備CPU”。UVW對位平臺是一個具有XY方向加θ微轉(zhuǎn)向角度的移動單元,以實現(xiàn)兩個工作對象的組合。
方法如下:
1、XYθ對中平臺:疊加一組X、Y模塊,上方放置旋轉(zhuǎn)機構(gòu)形成XYθ對中平臺精度一般較低。
2、UVW對位平臺:將兩組X電模塊和一組Y電模塊疊加,形成一個比前者精度更高的UVW對位平臺。
3、xxy對中平臺:是指由兩個X軸電氣模塊、一個Y軸模具電氣組和一個自由軸模塊組成的xxy對中平臺。它可以利用安裝在三軸模塊中的轉(zhuǎn)臺產(chǎn)生θ微轉(zhuǎn)角,精度高。
4、xxyy對中平臺:顧名思義,是由兩個X軸電氣模塊和兩個Y軸電氣模塊組成的xxyy對中平臺。機身的精度、對準(zhǔn)速度和剛度都比以前的產(chǎn)品高,制造難度也更大。
自動UVW對位平臺較早起源于德國。所采用的方法是用銷銷通過磁力開關(guān)移動框架,使上面的固定玻璃與下面的框架結(jié)合。在日本,它被改為UVW平臺,以三向UVW電力命名。然后,工程師將其作為藍圖,將其縮小,并大大降低其高度,以形成現(xiàn)在常見的XXY校準(zhǔn)平臺。磁力開關(guān)也已演變?yōu)橐粋€由導(dǎo)軌甚至交叉導(dǎo)軌組裝的單一模塊,以及由三軸電機甚至四軸電機驅(qū)動的高精度UVW對位平臺。
UVW平臺對準(zhǔn)系統(tǒng)識別定位參考點,并使用亞像素圖像對準(zhǔn)算法計算XYθ。它可以自動控制移動平臺反向運動的相應(yīng)運動量,校正測量對象的位置,實現(xiàn)精確的自動定位。對準(zhǔn)精度可達微米級。平臺攝像機采用一鍵校準(zhǔn),可識別任何形狀的目標(biāo)。該主機體積小、攜帶方便,可輕松集成到各種工業(yè)設(shè)備中。適用于各種高精度對中機構(gòu)和設(shè)備的裝配和對中。