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一字型UVW對位平臺

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發(fā)布時間： 2019 - 08 - 19

一字體UVW對位平臺采用2~3點支撐，由三個驅動軸組成，因為一字體排列支撐可讓平臺達到小型化并保持薄、穩(wěn)之優(yōu)點，空間占比更小，加上三軸XXY同時驅動可達到精準定位。臺面尺寸：70*115~...

客制化UVW精密對位平臺

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發(fā)布時間： 2019 - 08 - 19

客制化UVW對位平臺采用多點支撐，可依據客戶特殊需求進行方案設計，提供客戶快速快捷的解決方案。

重載型超高精密對位平臺

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發(fā)布時間： 2019 - 08 - 19

特性：靜負載2000Kg絕對定位精度＜10um重復定位精度±0.5um側向力20Kg＜20um 可用于一次對位應用案列：實際應用于A客戶XR系列面板貼合，并搭配軟件使...

模組化XYθ 對位平臺

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發(fā)布時間： 2019 - 08 - 19

特殊設計XYθ對位平臺采用X、Y、θ三軸模塊化搭配，可因應非標設計需求，可隨意搭配X、Y軸不同行程需求，達到不同功能之對位與長行程移載一體設計需求，節(jié)省設計空間與機構成本。XYθ對位平臺臺面尺寸：13...

直線電機XYθ對位模組

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發(fā)布時間： 2019 - 08 - 19

直驅電機模塊化設計，可自由組合，對位精度可達0.5um，GXYR對位模塊采用無槽直線電機及盤式DDR為動力，利用交叉滾子導軌與軸環(huán)做導向，內置高分辨率光柵，實現XYθ三軸聯(lián)動。是理想的測量儀器和檢測設...

六軸精密對位平臺

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發(fā)布時間： 2019 - 08 - 19

特性：動負載20Kg靜負載50Kg絕對定位精度＜15um重復定位精度±1um臺面偏擺角度＞2°應用案例：實際應用晶圓半導體的晶圓檢測設備，UVW對位與水平調整。

UVW+3Z六軸對位平臺

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發(fā)布時間： 2019 - 08 - 19

平臺簡介：該平臺以其上工作平面在空間豎直的3個自由度做運動，可以實現z方向±5mm垂直升降；工作平面可以圍繞某單軸或者2軸做傾擺，圖解：

三、六、七軸對位平臺

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特殊設計對位平臺采用功能模塊化堆積搭配，可因應非標設計需求，可隨意搭配GZ系列平臺以及TBZ系列平臺，達到不同功能之對位應用組合模塊化設計需求，節(jié)省設計空間與機構成本。GZ對位平臺臺面尺寸：220*2...

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